摆动式双轴抛光机

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       摆动式双轴抛光机由抛光盘、摆动式上压头、抛光液供应系统等单体组成,通过上压头给产品施加压力,在抛光盘和上压头旋转的同时,上压头伴随旋转左右位移对产品进行加工,以达到更好的平面度和光洁度。

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摆动式双轴抛光机

       摆动式双轴抛光机由抛光盘、摆动式上压头、抛光液供应系统等单体组成,通过上压头给产品施加压力,在抛光盘和上压头旋转的同时,上压头伴随旋转左右位移对产品进行加工,以达到更好的平面度和光洁度。

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摆动式双轴抛光机

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  • 产品描述

    |  设备概述
           摆动式双轴抛光机由抛光盘、摆动式上压头、抛光液供应系统等单体组成,通过上压头给产品施加压力,在抛光盘和上压头旋转的同时,上压头伴随旋转左右位移对产品进行加工,以达到更好的平面度和光洁度。

     

    |  应用领域
           应用于碳化硅(SiC)、硅(Si)、氮化镓(GaN)、锗(Ge)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等半导体材料的抛光,同时可用于蓝宝石、陶瓷、水晶、MEMS、光学产品等材料的加工。

     

    |  设备特点
     采用触摸界面及PLC控制。
     提供开放式的图形操控界面,充分发挥机械硬件性能。
     传动链短、稳定可靠。
     两个抛头主动旋转并左右移动,压力控制采用电气比例阀任意设定,且每个头均可单独控制。
     上下抛盘均采用循环冷却水强制冷却,温度控制精确。

     

    |  设备参数

    适用陶瓷盘

    Φ360mm * 15mm、Φ305mm * 15mm

    适用晶片

    4 inch、6 inch

    抛光机下盘

    尺寸

    Φ872mm

    材质

    不锈钢盘&抛光垫

    电机功率

    7kw

    转速范围

    5~200rpm

    最小转速控制量

    1rpm(触摸屏中设定)

    冷却

    水冷式冰水机(8P)

    盘温控制

    0℃~50℃

    修盘方式

    人工调节,伺服自动修盘

    抛光机上盘

    控制方式

    2轴独立控制,自动停止加工

    抛头材质

    SUS410(可按客户要求定做)

    加压气缸

    Φ100mm

    压力范围

    0~500kg

    控制精度

    ±1kgf(触摸屏中设定)

    电机功率

    0.75kw

    转速范围

    5~200rpm

    最小转速控制量

    1rpm(触摸屏中设定)

    抛光液供应系统

    供给方法

    循环泵(流量可以调节并实时监控)

    抛光液灌容量

    20L(冷却、搅拌)

    供液位置

    中心供液

    补液方式

    人工补液

    陶瓷盘固定

    半自动上料装置,陶瓷盘定位载具

    去除率

    具体视工艺及材料而定

    设备尺寸

    W2200mm * L2250mm * H2100mm

    设备重量

    约5000Kg

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