- 产品描述
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| 设备概述
摆动式双轴抛光机由抛光盘、摆动式上压头、抛光液供应系统等单体组成，通过上压头给产品施加压力，在抛光盘和上压头旋转的同时，上压头伴随旋转左右位移对产品进行加工，以达到更好的平面度和光洁度。| 应用领域
应用于碳化硅（SiC）、硅（Si）、氮化镓（GaN）、锗（Ge）、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）等半导体材料的抛光，同时可用于蓝宝石、陶瓷、水晶、MEMS、光学产品等材料的加工。| 设备特点
✦ 采用触摸界面及PLC控制。
✦ 提供开放式的图形操控界面，充分发挥机械硬件性能。
✦ 传动链短、稳定可靠。
✦ 两个抛头主动旋转并左右移动，压力控制采用电气比例阀任意设定，且每个头均可单独控制。
✦ 上下抛盘均采用循环冷却水强制冷却，温度控制精确。| 设备参数
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