- 产品描述
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| 设备概述
单面抛光系统由陶瓷盘料库装载平台、机械手、抛光机、刷洗机构成。机械手能快速完成自动上/下陶瓷盘。抛光机实现对产品的自动化单面抛光，刷洗机对残留在产品表面的抛光液进行清洗。| 应用领域
应用于碳化硅（SiC）、硅（Si）、氮化镓（GaN）、锗（Ge）、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）等半导体材料的抛光，同时可用于蓝宝石、陶瓷、水晶、MEMS、光学产品等材料的加工。| 适用范围
✦ 陶瓷盘尺寸：Φ305mm、Φ360mm、Φ485mm（可兼容）
✦ 产品尺寸：2、4、6寸（可兼容）
✦ 抛光效率：约0.2um～0.3um/min（具体视工艺而定）
✦ 清洗效率：约2min/盘（具体视工艺而定)
✦ 清洗液温度：30℃（具体视工艺而定）| 设备参数
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